第二个好处是功能增加，成本降低。尺寸缩小之后，集成度（单位面积的晶体管数量）提升，一是可以增加芯片的功能，二是根据摩尔定律，集成度提升的直接结果是成本的下降。
这也是为什么半导体行业一直追求摩尔定律的原因，因为如果达不到这个标准，你家的产品成本就会高于能达到这个标准的对手，时间一长如果还无法突破，可能你家就倒闭了。
这也是后世华夏追赶紧难的原因，别人拥有先发优势占有市场，再利用市场的利润投入研发，如此反复形成良性循环，比纯投入低产出拥有太多的优势了。
第三个好处是晶体管缩小可以降低单个晶体管的功耗，因为缩小的规则要求，同时会降低整体芯片的供电电压，进而降低功耗。
华汉星重生前，人类所以研发的晶体管已经达到3纳米级别，这几乎已经是硅晶片所能达到的摩尔定理极眼，人们已经开始在寻找新的材料，希望在新的材料上获得突破。
……
神威实验室，光刻机研制中心。
真空的容器里，一片片圆形的硅晶片整齐的摆放在容器上，十万滴融化的锡液从容器底部流出，四对紫色的激光束照亮起，以每秒一千米的速度在容器内运动着。
紫光照射过每一滴锡液，产生出等离子体，通过锡液的过滤，紫色激光释放出了更短的波长，超高精度的反射镜引导这些短波长的光线划过锡液底下的硅晶片。
一道道的紫光通过复制的方法，把设计好的电路从掩模上转移至硅片上，完成这一步奏，离子开始注入晶管，薄腊开始沉积，然后化学浸渍，机械研磨。
纳米极紫外线光刻机，分为13个系统，3万个分件，作动时每一分都要精准到微秒级，这里每个步骤出百分之一差错可能整个批次的芯片都得报费。
工作人员小心翼翼的取出硅晶片，灯光的反射下，光刻好的硅晶片带着一层淡淡的金光，上面一块块方形的芯片让人目眩神疑。
“终于完成了，四制程同步联动光刻机，比国外的还要多出两个制程！”
胡伟武眼中难掩激动之色，不过现在还不是高兴的时候，芯片还有最后一步要完成。
IC封测！
这一刻整个光刻机车间里，所有工作人员都忍不住屏住了吸呼。
“130纳米，良品率96.6%！”